کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
689424 | 889610 | 2012 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Real-time virtual metrology and control for plasma etch
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
تکنولوژی و شیمی فرآیندی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠In this paper we apply predictive function control to a plasma etch chamber. ⺠Real-time virtual metrology models are used for process feedback. ⺠Electron density and etch rate are estimated using plasma impedance monitor data. ⺠Plasma electron density is controlled accurately in real-time. ⺠Etch rate is controlled to within 1% of the desired set point during experiments.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Process Control - Volume 22, Issue 4, April 2012, Pages 666-676
Journal: Journal of Process Control - Volume 22, Issue 4, April 2012, Pages 666-676
نویسندگان
Shane A. Lynn, Niall MacGearailt, John V. Ringwood,