کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942355 | 1450285 | 2018 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Metal work function engineering on epitaxial (100)Ge and (110)Ge metal-oxide-semiconductor devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 199, 5 November 2018, Pages 80-86
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 199, 5 November 2018, Pages 80-86
نویسندگان
Peter D. Nguyen, Michael B. Clavel, Aheli Ghosh, Mantu K. Hudait,