کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6942407 1450288 2018 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High temperature water as a clean and etch of low-k and SiO2 films
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
High temperature water as a clean and etch of low-k and SiO2 films
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 196, 5 September 2018, Pages 54-58
نویسندگان
, , , , , ,