کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942419 | 1450289 | 2018 | 28 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization of HfO2-based devices with indication of second order memristor effects
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 195, 5 August 2018, Pages 101-106
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 195, 5 August 2018, Pages 101-106
نویسندگان
A. Rodriguez-Fernandez, C. Cagli, L. Perniola, E. Miranda, J. Suñé,