کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942505 | 1450291 | 2018 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Shallow Si NÂ +Â P junction diodes realized via molecular monolayer doping
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
From chemistry to device fabrication: silicon NÂ +Â P Junctions formed by self-assembled monolayer doping process.191
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 193, 5 June 2018, Pages 1-6
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 193, 5 June 2018, Pages 1-6
نویسندگان
Astha Tapriya, Brian Novak, Scott Williams, Santosh Kurinec,