کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6942516 1450292 2018 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A wafer-scaled III-V vertical FET fabrication by means of plasma etching
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A wafer-scaled III-V vertical FET fabrication by means of plasma etching
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 192, 15 May 2018, Pages 14-18
نویسندگان
, , , ,