کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942525 | 1450292 | 2018 | 21 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanofabrication by field-emission scanning probe lithography and cryogenic plasma etching
ترجمه فارسی عنوان
نانوکامپوزیت با لیتوگرافی پروب اسکن لایه برداری و اکتیو پلاسما یونیزاسیون
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
ترانزیستور الکترون تک دمای اتاق، لیتوگرافی پروب اسکن لایه انتشار، اچینگ واکنش پذیر یخ روی یخ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 192, 15 May 2018, Pages 77-82
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 192, 15 May 2018, Pages 77-82
نویسندگان
Claudia Lenk, Martin Hofmann, Steve Lenk, Marcus Kaestner, Tzvetan Ivanov, Yana Krivoshapkina, Diana Nechepurenko, Burkhard Volland, Mathias Holz, Ahmad Ahmad, Alexander Reum, Chen Wang, Mervyn Jones, Zahid Durrani, Ivo W. Rangelow,