کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942541 | 1450292 | 2018 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Towards sub-micrometer high aspect ratio X-ray gratings by atomic layer deposition of iridium
ترجمه فارسی عنوان
به سوی غرفه های اشعه ایکس با نسبت مساوی زیر میکرومتر توسط لایه ی اتمی لایه ایییدیم
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
تداخل سنجی اشعه ایکس بر اساس گریت، اچ سیلیکون یونی واکنش پذیر عمیق، رسوب لایه اتمی ایریدیوم،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 192, 15 May 2018, Pages 19-24
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 192, 15 May 2018, Pages 19-24
نویسندگان
Joan Vila-Comamala, Lucia Romano, Vitaliy Guzenko, Matias Kagias, Marco Stampanoni, Konstantins Jefimovs,