کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942570 | 1450293 | 2018 | 18 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Exploiting atomic layer deposition for fabricating sub-10Â nm X-ray lenses
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 191, 5 May 2018, Pages 91-96
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 191, 5 May 2018, Pages 91-96
نویسندگان
Benedikt Rösner, Frieder Koch, Florian Döring, Jeroen Bosgra, Vitaliy A. Guzenko, Eugenie Kirk, Markus Meyer, Joshua L. Ornelas, Rainer H. Fink, Stefan Stanescu, Sufal Swaraj, Rachid Belkhou, Benjamin Watts, Jörg Raabe, Christian David,