کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6942644 1644959 2018 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Wet and Siconi® cleaning sequences for SiGe p-type metal oxide semiconductor channels
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Wet and Siconi® cleaning sequences for SiGe p-type metal oxide semiconductor channels
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volumes 187–188, 5 February 2018, Pages 84-89
نویسندگان
, , , , , , , , ,