کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943323 | 1450340 | 2015 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Residual layer-free Reverse Nanoimprint Lithography on silicon and metal-coated substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Residual layer-free Reverse Nanoimprint Lithography on silicon and metal-coated substrates Residual layer-free Reverse Nanoimprint Lithography on silicon and metal-coated substrates](/preview/png/6943323.png)
چکیده انگلیسی
In this work we demonstrate that Reverse Nanoimprint Lithography is a feasible and flexible lithography technique applicable to the transfer of micro and nano polymer structures with no residual layer over areas of cm2 areas on silicon, metal and non-planar substrates. We used a flexible polydimethylsiloxane stamp with hydrophobic features. We present residual layer-free patterns imprinted using a commercial poly(methylmethacrylate) thermoplastic polymer over silicon, nickel and pre-patterned substrates. Our versatile patterning technology is adaptable to free form nano structuring and has coupling to adhesion technologies.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 141, 15 June 2015, Pages 56-61
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 141, 15 June 2015, Pages 56-61
نویسندگان
Ariadna Fernández, Juan Medina, Christian Benkel, Markus Guttmann, Brian Bilenberg, Lasse H. Thamdrup, Theodor Nielsen, Clivia M. Sotomayor Torres, Nikolaos Kehagias,