| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
|---|---|---|---|---|
| 6943499 | 1450344 | 2015 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Challenges of nickel silicidation in CMOS technologies
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 137, 2 April 2015, Pages 79-87
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 137, 2 April 2015, Pages 79-87
نویسندگان
Nicolas Breil, Christian Lavoie, Ahmet Ozcan, Frieder Baumann, Nancy Klymko, Karen Nummy, Bing Sun, Jean Jordan-Sweet, Jian Yu, Frank Zhu, Shreesh Narasimha, Michael Chudzik,