کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943501 1450344 2015 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of an ultra-thin Ti interlayer on the formation of NiSiGe/SiGe
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Impact of an ultra-thin Ti interlayer on the formation of NiSiGe/SiGe
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 137, 2 April 2015, Pages 92-95
نویسندگان
, , , , , , , , , ,