کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943501 | 1450344 | 2015 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of an ultra-thin Ti interlayer on the formation of NiSiGe/SiGe
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 137, 2 April 2015, Pages 92-95
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 137, 2 April 2015, Pages 92-95
نویسندگان
Bo Zhang, Chunlei Hou, Yunxia Ping, Wenjie Yu, Zhongying Xue, Xing Wei, Zengfeng Di, Miao Zhang, Xi Wang, Qingtai Zhao,