کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943546 | 1450346 | 2015 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation of the TiN/photoresist interface degradation during a wet etch
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 135, 5 March 2015, Pages 7-12
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 135, 5 March 2015, Pages 7-12
نویسندگان
Mathieu Foucaud, Denis Guiheux, David Pinceau, Philippe Garnier, Erwine Pargon, Raluca Tiron,