کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943743 | 1450369 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Development of a nondeforming chucking technique for EUV lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Development of a nondeforming chucking technique for EUV lithography Development of a nondeforming chucking technique for EUV lithography](/preview/png/6943743.png)
چکیده انگلیسی
- A nondeforming chucking technique for EUV lithography has been developed.
- Temperature distribution and shear and tension forces during freezing were calculated by FEM.
- Shear strength of 0.2 N per pin and tensile strength of 0.34 N per pin, and solidification deformation below ±0.15 μm were measured.
- The new freezing pin chuck has the pitch of 2 mm and are cooled with coolant of 5 °C.
- The new chuck can clamp the low expansion glass mask without deformation at temperatures below 50 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 278-281
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 278-281
نویسندگان
Atsunobu Une, Nagahisa Ogasawara, Kenichiro Yoshitomi, Masaaki Mochida,