کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943758 1450369 2013 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dependence of the fused-silica etch rate on the etch mask opening diameter
ترجمه فارسی عنوان
وابستگی میزان اکسید سیلیکا به سیلیکا در قطر باز شدن ماسک اچ
کلمات کلیدی
سیلیس فروخته شده رطوبت عمیق، ماسک نرم / سخت
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
وابستگی میزان اکسید سیلیکا به سیلیکا در قطر باز شدن ماسک اچ
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 10-13
نویسندگان
, , , ,