کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943779 1450369 2013 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SU-8 etching in inductively coupled oxygen plasma
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
SU-8 etching in inductively coupled oxygen plasma
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 35-40
نویسندگان
, , , , ,