| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 6943779 | 1450369 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												SU-8 etching in inductively coupled oxygen plasma
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													مهندسی کامپیوتر
													سخت افزارها و معماری
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												 
												ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 35-40
											Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 35-40
نویسندگان
												Kristian Hagsted Rasmussen, Stephan Sylvest Keller, Flemming Jensen, Anders Michael Jorgensen, Ole Hansen,