کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943779 | 1450369 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SU-8 etching in inductively coupled oxygen plasma
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 35-40
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 35-40
نویسندگان
Kristian Hagsted Rasmussen, Stephan Sylvest Keller, Flemming Jensen, Anders Michael Jorgensen, Ole Hansen,