کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943807 | 1450369 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Surface reaction effects on dry etching of IGZO thin films in N2/BCl3/Ar plasma
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
- IGZO thin films etched in inductively coupled N2/BCl3/Ar plasma.
- Analyzed the surface chemical reaction of etched IGZO thin films using XPS.
- The surface morphology of IGZO thin films observed by AFM and FESEM.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 74-79
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 74-79
نویسندگان
Young-Hee Joo, Jong-Chang Woo, Chang-Il Kim,