کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943807 1450369 2013 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Surface reaction effects on dry etching of IGZO thin films in N2/BCl3/Ar plasma
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Surface reaction effects on dry etching of IGZO thin films in N2/BCl3/Ar plasma
چکیده انگلیسی

- IGZO thin films etched in inductively coupled N2/BCl3/Ar plasma.
- Analyzed the surface chemical reaction of etched IGZO thin films using XPS.
- The surface morphology of IGZO thin films observed by AFM and FESEM.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 112, December 2013, Pages 74-79
نویسندگان
, , ,