کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944143 | 1450372 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electron mobility in heavily doped junctionless nanowire SOI MOSFETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
- Mobility in highly doped junctionless trigate MOSFETs is experimentally studied.
- Mobility enhancement in narrow nanowire versus wide devices is demonstrated.
- Mobility values in narrow nanowire MOSFETs exceed the bulk mobility value.
- These effects are due to reduced impurity scattering in narrow nanowire devices.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 326-329
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 326-329
نویسندگان
T. Rudenko, A. Nazarov, R. Yu, S. Barraud, K. Cherkaoui, P. Razavi, G. Fagas,