کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944189 | 1450382 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of O2-based plasma strip chemistries on the electrochemical behavior of TiN electrodes for biomedical applications
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠CMOS-based patterning of TiN electrodes can reduce the electrochemical characteristics. ⺠N2/H2-based chemistries are good alternatives to keep the TiN surface intact. ⺠The use of H2O vapor/CF4 can lead to even further improvement.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 99, November 2012, Pages 6-10
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 99, November 2012, Pages 6-10
نویسندگان
N. Collaert, G. Mannaert, V. Paraschiv, D. Goossens, M. Demand, W. Eberle,