کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6944332 1450383 2012 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of air gap dielectrics by nanoimprint lithography
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Fabrication of air gap dielectrics by nanoimprint lithography
چکیده انگلیسی
► We report a powerful new route to fabricate air gap dielectrics with well-defined pore geometries. ► Method utilizes the combination of nanoimprint lithography and a sacrificial template approach. ► Successful fabrication of defect free mechanically robust air gap films (ultra-low k value of 1.9). ► Attractive candidates as interlayer dielectrics for next-generation integrated circuit applications.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 89-96
نویسندگان
, , , ,