کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944348 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Preparation of random stamps for thermal nanoimprint
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Random stamps with pyramidal patterns in nano size for T-NIL. ⺠Dry etching of Si in SF6/O2 plasma. ⺠Self-masking effect by contamination. ⺠Strong loading affects pyramid geometries. ⺠Broad angular distribution of the reflected light.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 103-106
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 103-106
نویسندگان
Si Wang, Andre Mayer, Khalid Dhima, Saskia Möllenbeck, Hella-Christin Scheer,