کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944356 | 1450383 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thermal nanoimprint resist for the fabrication of high-aspect-ratio patterns
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We present a new thermal NIL resist for high-aspect-ratio patterns via a bilayer approach. ⺠The resist properties are tailored by free radical polymerization of specific comonomers. ⺠The resist shows excellent flowability and demoulding characteristics. ⺠A high oxygen RIE resistance demonstrates the suitability of the resist as a masking layer.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 107-111
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 107-111
نویسندگان
M. Messerschmidt, A. Schleunitz, C. Spreu, T. Werner, M. Vogler, F. Reuther, A. Bertz, H. Schift, G. Grützner,