کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944384 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Negative hybrid sol-gel resist as hard etching mask for pattern transfer with dry etching
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We synthesized a new HOI system to be used as sacrificial resist. ⺠The HOI resist was patterned with soft XRL. ⺠The patterned film was used as mask for pattern transfer in a ICP reactor. ⺠Selectivity up to 60 was obtained with a non-switched etching process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 134-137
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 134-137
نویسندگان
Gianluca Grenci, Gioia Della Giustina, Alessandro Pozzato, Erika Zanchetta, Massimo Tormen, Giovanna Brusatin,