کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6944384 1450383 2012 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Negative hybrid sol-gel resist as hard etching mask for pattern transfer with dry etching
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Negative hybrid sol-gel resist as hard etching mask for pattern transfer with dry etching
چکیده انگلیسی
► We synthesized a new HOI system to be used as sacrificial resist. ► The HOI resist was patterned with soft XRL. ► The patterned film was used as mask for pattern transfer in a ICP reactor. ► Selectivity up to 60 was obtained with a non-switched etching process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 134-137
نویسندگان
, , , , , ,