کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944444 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Integration of rotated 3-D structures into pre-patterned PMMA substrate using step & stamp nanoimprint lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We demonstrate manufacturing of three-dimensional stamp fabrication process based on hybrid 3D nanofabrication processes. ⺠Combination of e-beam lithography, X-ray LIGA and thermal imprint lithography. ⺠Angular controlled imprints on pre-patterned substrate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 180-183
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 180-183
نویسندگان
T. Haatainen, T. Mäkelä, A. Schleunitz, G. Grenci, M. Tormen,