کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944453 | 1450383 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Strength enhancement of nano patterns from edge lithography for nanoimprint mold
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠SiO2 nano patterns are fabricated by edge lithography. ⺠Nano pattern strength is enhanced by small Si step. ⺠Nano patterns are transferred by thermal nano imprint. ⺠Polystyrene nano patterns are obtained. ⺠Si nano trench is successfully fabricated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 189-193
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 189-193
نویسندگان
Junji Sakamoto, Hayato Noma, Norifumi Fujikawa, Hiroaki Kawata, Masaaki Yasuda, Yoshihiko Hirai,