کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944460 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Extreme UV diffraction grating fabricated by nanoimprint lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The patterning steps of grating pattern and stop layer are separated. ⺠The grating patterning can be more efficient by using nanoimprint lithography. ⺠The imprinted SU-8 grating can function as the EUV diffraction grating directly.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 194-197
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 194-197
نویسندگان
Chun-Hung Lin, Yi-Ming Lin, Chia-Ching Liang, Yin-Yu Lee, Hok-Sum Fung, Bor-Yuan Shew, Szu-Hung Chen,