کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6944481 1450383 2012 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A study of contact angles according to the resist thickness and imprint time effects during NIL
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A study of contact angles according to the resist thickness and imprint time effects during NIL
چکیده انگلیسی
► The resist thickness, pressure and contact angle as the factors. ► To understand factors, NIL experiments and NIL simulations have been conducted. ► NIL experiment by ANT-2T and NIL simulations by FLUENT. ► Capillary force is dominant at the low pressure in NIL process. ► Contact angles are reduced as pressure increases.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 210-213
نویسندگان
, , , ,