کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944481 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A study of contact angles according to the resist thickness and imprint time effects during NIL
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠The resist thickness, pressure and contact angle as the factors. ⺠To understand factors, NIL experiments and NIL simulations have been conducted. ⺠NIL experiment by ANT-2T and NIL simulations by FLUENT. ⺠Capillary force is dominant at the low pressure in NIL process. ⺠Contact angles are reduced as pressure increases.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 210-213
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 210-213
نویسندگان
JiHyeong Ryu, HyungJun Lim, Mira Jeong, JaeJong Lee,