کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944509 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Novel organic polymer for UV-enhanced substrate conformal imprint lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠UV-curing organic polymers as resists for UV-SCIL were investigated. ⺠UV-SCIL processes for two fully organic polymers were developed. ⺠A reduction of UV-SCIL process time was achieved using an epoxy based resist. ⺠Structures were transferred using imprinted polymer layers as etching masks. ⺠A temperature assisted UV-SCIL process with epoxy based resists is introduced.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 238-241
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 238-241
نویسندگان
R. Fader, H. Schmitt, M. Rommel, A.J. Bauer, L. Frey, R. Ji, M. Hornung, M. Brehm, M. Vogler,