کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944586 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic resolution top-down nanofabrication with low-current focused-ion-beam thinning
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Developed a technique of size reduction to sub-ten nanometers by FIB milling. ⺠FIB milling is a top-down and site-specific approach with atomic resolution. ⺠No remarkable morphology and microstructure changes of W composite nanowires were observed after thinning. ⺠FIB thinning is an effective method towards size and quantum effects observation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 301-304
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 301-304
نویسندگان
Wuxia Li, Ajuan Cui, Changzhi Gu, P.A. Warburton,