کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6944610 1450383 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A new process for the fabrication of planar antenna coupled Ni-NiOx-Ni tunnel junction devices
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A new process for the fabrication of planar antenna coupled Ni-NiOx-Ni tunnel junction devices
چکیده انگلیسی
► Methods to fabricate planar, geometrically asymmetric Ni-NiOx-Ni tunnel diodes are developed. ► Planar structure decreased the parasitic capacitance enabling high cut-off frequency. ► Ni electrodes provided the surface oxidation control and low band edge offset with its native oxide. ► Asymmetric geometry of the electrodes resulted in electrical asymmetry across zero bias. ► Three Ni oxidation methods are studied to build a thin, but durable oxide for the tunnel barrier.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 329-333
نویسندگان
, , , , ,