کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944610 | 1450383 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A new process for the fabrication of planar antenna coupled Ni-NiOx-Ni tunnel junction devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Methods to fabricate planar, geometrically asymmetric Ni-NiOx-Ni tunnel diodes are developed. ⺠Planar structure decreased the parasitic capacitance enabling high cut-off frequency. ⺠Ni electrodes provided the surface oxidation control and low band edge offset with its native oxide. ⺠Asymmetric geometry of the electrodes resulted in electrical asymmetry across zero bias. ⺠Three Ni oxidation methods are studied to build a thin, but durable oxide for the tunnel barrier.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 329-333
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 329-333
نویسندگان
Filiz Yesilkoy, Sunil Mittal, Neil Goldsman, Mario Dagenais, Martin Peckerar,