Evaporation-induced receding contact lines in partial-wetting regime on a heated substrate

خط تماس در حال حرکت یک مفصل نانومواد است که شرایط مرزی بحرانی را برای رابط مایع در یک سیستم خیساندن فراهم می کند. درک ما در مورد خط تماس جزئی مسهل بسیار محدود است که به ویژه هنگامی درست است که وضعیت با تغییر فاز پیچیده در طبیعت و فن آوری ها همه جا پیچیده است. در این کار، ما با استفاده از دو روش اسکن میکروسکوپی نیروی اتمی، خطوط تماس کاهش یافته با تبخیر را در رژیم خیس شدن جزئی کشف کردیم. با استفاده از اسکن حالت ضربه زدن، مشخصات منیسک درونی منحصر به خط تماس ظاهری بدون خم شدن در پروفیل یافت می شود که به طور قابل توجهی مدل سازی در مورد منیسک های ذاتی را تسهیل می کند. زاویه محلی خط ارتباطی به طور سیستماتیک با سرعت حرکتی متفاوت است، که واقعیت این است که علیه فرض ثابت به طور گسترده استفاده شده در مدل های هیدرودینامیکی متفاوت است. با استفاده از اسکن کردن حالت ضربه زدن و همچنین استفاده از روش منحنی خمشی با پروب های نرم یا سفت، یک لایه نانو نازک فیلم بر روی بستر فراتر از خط تماس کشف شد. ضخامت نانو فیلم با فاصله دور از خط تماس کاهش می یابد و در نهایت به ضخامت ثابت جذب شده یعنی ضخامت پلی اتیلن غیر قابل انفجاری رسید اگر آزمایش ها در یک اتاق بخار بود. ما خطوط تماس پیشرو در هوای آزاد را بررسی کردیم و هنوز فیلم نازک نانو را در مقابل خط تماس به عنوان یک پیشرو تشخیص دادیم. فیلم نازک نازک می تواند ناحیه تبخیری اضافی ایجاد کند که می تواند موج شکن تبخیر فوق العاده ای را که در آزمایش های اخیر در منیسک های نانومقیاس دیده می شود، منطقی سازد. جهت محاسبه تبخیر لایه تماس جزئی، خنک کننده هدایت شده است.