کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7117639 | 1461364 | 2018 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Yttrium oxide film for protecting quartz glass surface from etching by long-term exposure to chlorine trifluoride gas at room temperature
ترجمه فارسی عنوان
فیلم اکسید یتیم برای محافظت از سطح شیشه کوارتز از اچ توسط قرار گرفتن در معرض طولانی مدت در معرض گاز کلر تری فلوئورید در دمای اتاق
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
اکسید یونی گاز کلر تری فلوئورید، فیلم پوشش شیشه کوارتز، اچینگ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
چکیده انگلیسی
The anticorrosive property of yttrium oxide was evaluated using chlorine trifluoride gas. After the exposure to chlorine trifluoride gas at room temperature for the total time longer than 1000â¯min, the yttrium oxide film, formed on a quartz glass surface, did not show any etching behavior and surface morphology change, while the non-coated quartz glass showed a rough surface with the etching depth of nearly 0.1â¯mm. Because yttrium oxide had no chemical reaction with chlorine trifluoride gas at temperatures less than 300â¯Â°C, yttrium oxide film is expected to protect the quartz glass from etching by chlorine trifluoride gas at room temperature for a significantly long time.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 83, 15 August 2018, Pages 211-215
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 83, 15 August 2018, Pages 211-215
نویسندگان
Ryohei Kawasaki, Yasuhiro Umetsu, Keisuke Kurashima, Kohei Shioda, Asumi Hirooka, Hitoshi Habuka,