کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7118063 | 1461372 | 2018 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Diffusion doping of germanium by sputtered antimony sources
ترجمه فارسی عنوان
پخش دوپینگ ژرمانیوم با منابع آلی آنتیموان
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
ژرمانیوم، پرتقال، انتشار آنتیموان،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
چکیده انگلیسی
Antimony sputter deposition and subsequent diffusion annealing in controlled atmosphere was implemented on Ge wafers, for achieving an optimized n+ doping aimed at the final application of these doped contacts to Ge-based radiation detectors. Two approaches were adopted for n+ doping: diffusion from Sb source sputtered directly on the Ge surface, and diffusion from a remote dopant source. Surface morphology was specifically investigated by electron (SEM-EDS) and atomic (AFM) microscopies. Diffusion profiles were characterized by Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS). The remote doping, obtained by using a Sb-coated Si wafer placed close to the Ge substrate during the diffusion annealing, allowed to attain defect-free surface morphologies and diffusion profiles compatible with well assessed equilibrium diffusion models.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 75, 1 March 2018, Pages 118-123
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 75, 1 March 2018, Pages 118-123
نویسندگان
Gianluigi Maggioni, Francesco Sgarbossa, Enrico Napolitani, Walter Raniero, Virginia Boldrini, Sara Maria Carturan, Daniel Ricardo Napoli, Davide De Salvador,