کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7150936 | 1462217 | 2016 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Multilayer Pt/Al based ohmic contacts for AlGaN/GaN heterostructures stable up to 600°C ambient air
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
In this paper, we present a Pt/Al multilayer stack-based ohmic contact metallization for AlGaN/GaN heterostructures. Circular transmission line method (CTLM) structures were fabricated to assess the electrical properties of the proposed metallization. The fabricated stack shows excellent stability after more than 100 hours of continuous aging at 600°C in air. Measured I-V characteristics of the fabricated samples show excellent linearity after the aging. The Pt/Al-based metallization shows great potential for future device and sensor applications in extreme environment conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 116, February 2016, Pages 107-110
Journal: Solid-State Electronics - Volume 116, February 2016, Pages 107-110
نویسندگان
Nitin Goyal, Srujana Dusari, Jochen Bardong, Farid Medjdoub, Andreas Kenda, Alfred Binder,