کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
728677 1461420 2014 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation on post annealed copper sulfide thin films from photochemical deposition technique
ترجمه فارسی عنوان
بررسی فیلمهای نازک سولفید مس پس از انحلال تکنیک رسوب فتوشیمیایی
کلمات کلیدی
رسوبات فتوشیمیایی، ضدافسردگی انلینگ، سولفید مس، مورفولوژی سطح
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
چکیده انگلیسی

CuxS thin films were deposited on glass substrates at room temperature by photochemical deposition after 1 h photo irradiation using the precursor solution containing copper sulphate pentahydrate (CuSO4·5H2O), sodium thiosulphate (Na2S2O3) as a source material for Copper and Sulphur respectively and Di Sodium salt of EDTA as a chelating agent in acidic medium (pH~3.0). The as deposited and annealed CuxS thin films were investigated using XRD, UV–vis, AFM, SEM and Hall measurements. The deposited thin films were annealed at temperature up to 400 °C for 1 h. Above 200 °C the deposited film of CuxS changes from anilite phase (Cu1.75S) to digenite (Cu1.8S) phase. The reduction in sulphur content of the films is evident in the EDX analysis. From the Hall Effect results as deposited and annealed films show p-type conductivity with increasing bulk concentration. Analyses of the optical bandgap of the films indicate an indirect bandgap between 1.75 and 2.35 eV.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 26, October 2014, Pages 155–161
نویسندگان
, , , ,