کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
728976 | 1461438 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Strain-induced shift of phonon modes in Si1-xGexSi1-xGex alloys
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A theoretical approach to the lattice dynamics of Si1-xGexSi1-xGex alloys within a valence force field framework is discussed. A modified Keating model, the anharmonic Keating, was employed to perform supercell calculations in order to investigate accurately the three Raman active optical phonon modes. Theoretical results on both relaxed and strained SiGe samples are shown. A detailed study of the biaxial strain-induced shift of phonon modes of epitaxial SiGe alloys has been performed in all the composition range. Furthermore, a comparison of experimental data with the model results on phonon strain shift coefficients will be also discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 9, Issues 4–5, August–October 2006, Pages 541–545
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 9, Issues 4–5, August–October 2006, Pages 541–545
نویسندگان
F. Pezzoli, E. Grilli, M. Guzzi, S. Sanguinetti, D. Chrastina, G. Isella, H. von Känel, E. Wintersberger, J. Stangl, G. Bauer,