کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
729051 | 1461439 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Monte Carlo simulation of the modulated effect induced by the dislocation to the quantum dot growth
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Performing an event-based continuous kinetic Monte Carlo simulation, we investigate the modulated effect induced by the dislocation on the substrate to the growth of semiconductor quantum dots (QDs). The relative positions between the QDs and the dislocations are studied. The stress effects to the growth of the QDs are considered in simulation. The simulation results are compared with the experiment and the agreement between them indicates that this simulation is useful to study the growth mode and the atomic kinetics during the growth of the semiconductor QDs.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 9, Issues 1–3, February–June 2006, Pages 31–35
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 9, Issues 1–3, February–June 2006, Pages 31–35
نویسندگان
C. Zhao, Y.H. Chen, Man Zhao, C.L. Zhang, B. Xu, L.K. Yu, J. Sun, W. Lei, Z.G. Wang,