کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
753304 | 895509 | 2009 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact ionization rates for strained Si and SiGe
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
With the constant-matrix-element approach we have calculated the impact ionization (II) rates for uniaxially/biaxially strained Si and biaxially strained SiGe. Energy and momentum are exactly conserved during the calculation of the six-dimensional integral in k-space over four conduction and three valence bands. The wave-vector space is discretized with a very fine grid with a spacing of up to 140(2π/a), where a is the lattice constant. II coefficient and quantum yield for relaxed Si, strained Si and strained SiGe are calculated through full-band Monte Carlo simulations. Good agreement between simulation and experimental data for relaxed Si is obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 53, Issue 12, December 2009, Pages 1318–1324
Journal: Solid-State Electronics - Volume 53, Issue 12, December 2009, Pages 1318–1324
نویسندگان
Thanh Viet Dinh, Christoph Jungemann,