کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7677433 | 1495757 | 2018 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Rapid reagent-less on-line H2O2 quantification in alkaline semiconductor etching solution, Part 2: Nephelometry application
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی آنالیزی یا شیمی تجزیه
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A rapid, reagent-less nephelometric method was developed for automatic on-line H2O2 quantification in industrial alkaline semiconductors etching solution. The method is based on the H2O2 catalytic decomposition by immobilized MnO2 resulting in oxygen gas suspension which scatters the light. Its intensity was registered vs the time applying the nephelometry and the height of the Photocurrent vs. the Time peak was used as measure of the H2O2 concentration.150
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Talanta - Volume 179, 1 March 2018, Pages 594-600
Journal: Talanta - Volume 179, 1 March 2018, Pages 594-600
نویسندگان
Roumen Zlatev, Margarita Stoytcheva, Benjamin Valdez,