کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7825917 | 1502980 | 2018 | 50 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Silicon-containing block copolymers for lithographic applications
ترجمه فارسی عنوان
کوپلیمرهای بلوکی حاوی سیلیکون برای کاربردهای لیتوگرافی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی آلی
چکیده انگلیسی
Directed self-assembly (DSA) of BCP on topographic or chemically patterned substrates has attracted a great attention from academic and industrial research since it offers the advantage of defect free nanopatterning at large scales. The key achievements in DSA methods are elaborated in the subsequent parts of this review. New trends for lithographic applications and the applications beyond lithography using Si-containing BCPs for nanopatterning are also discussed, and finally, concluding remarks and perspectives for BCP lithography are presented.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Progress in Polymer Science - Volume 77, February 2018, Pages 19-68
Journal: Progress in Polymer Science - Volume 77, February 2018, Pages 19-68
نویسندگان
Ting-Ya Lo, Mohan Raj Krishnan, Kai-Yuan Lu, Rong-Ming Ho,