کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7849440 1508842 2016 14 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Mechanisms of graphene fabrication through plasma-induced layer-by-layer thinning
ترجمه فارسی عنوان
مکانیسم ساخت گرافن از طریق کاهش لایه ناشی از پلاسما
کلمات کلیدی
گرافن، پلاسما، لاغر شدن توسط لایه، اچینگ گرافن، مکانیسم،
ترجمه چکیده
گرافن یک لایه کربن هیبریداسیون اسپ2 است که یک ضخامت تک اتمی است که اکثر اتم های آن را به محیط اطراف منتقل می کند. خواص گرافن به تعداد لایه های آن بسیار وابسته است. در حال حاضر سنتز گرافن یکنواخت با تعداد مشخصی از لایه ها در یک روش قابل کنترل، سخت است. در این بررسی، ما برجسته پیشرفت های جاری در زمینه استفاده از پلاسما های مختلف برای کنترل ضخامت گرافن ارائه می کنیم. مکانیزم هایی که در پدیده اچینگ ورق گرافن برای تحقق بخشیدن به کنترل لایه ها مورد بررسی قرار گرفته و مقایسه شده اند. اچینگ لایه با لایه ای می تواند با استفاده از پارامترهای عملیاتی کنترل شده از انواع مختلف پلاسما اعمال شده بر روی گرافن و همراه با اثرات سوبستر تحت لایه حاصل شود. با استفاده از این بررسی، ما یک مرور کلی از کاربرد پلاسما را به عنوان مبنای توسعه رویکردهای جدید برای به دست آوردن گرافن یکنواخت با تعداد مورد نظر لایه ها در آینده نزدیک پیشنهاد می کنیم.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی انرژی انرژی (عمومی)
پیش نمایش مقاله
مکانیسم ساخت گرافن از طریق کاهش لایه ناشی از پلاسما
چکیده انگلیسی
Graphene is a layer of sp2 hybridized carbon of a single-atomic thickness, which exposes most of its atoms to the surrounding medium. The properties of graphene are highly dependent on its number of layers. Currently, the synthesis of uniform graphene with a specific number of layers in a controllable way is rather hard. In this review, we present the highlights of current advances regarding utilization of various plasmas for the control of graphene thickness. The mechanisms involved in the etching phenomenon of the graphene sheet to realize the layer control are particularly analyzed and compared. A precise layer-by-layer etching could be achieved using controlled operating parameters of different kinds of plasmas applied to graphene and combined with sub-layer substrate effects. With this review, we propose a concise overview of the application of plasma as the basis of development of new approaches to obtain uniform graphene with the desired number of layers in near future.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Carbon - Volume 105, August 2016, Pages 496-509
نویسندگان
, , , ,