کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7913340 1510906 2015 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Stress evolution during growth of 1-D island arrays: Kinetics and length scaling
ترجمه فارسی عنوان
تکامل استرس در طول رشد آرایه های جزیره 1 د: سینتیک و مقیاس طول
کلمات کلیدی
ترجمه چکیده
برای کشف مکانیزمهای کنترل استرس باقی مانده در فیلمهای نازک، تکامل استرس را در طی جابجایی نیکل بر روی صفحات الگوی لایتوگرافی با فاصله های مختلف الگو و نرخ رشد اندازه گیری کردیم. مطالعه فیلم ها با هندسه شاهد کنترل شده ما را قادر می سازد تا تنش (با استفاده از انحنای ویفر) اندازه گیری شود تا به تکامل مورفولوژی بپردازد. ما اندازه گیری ها را با یک مدل تحلیل می کنیم که بر استرس هایی که در آن جزایر مجاور با یکدیگر رشد می کنند برای تشکیل عناصر جدیدی از مرز دانه طراحی شده است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سرامیک و کامپوزیت
چکیده انگلیسی
To explore the mechanisms controlling residual stress in thin films, we have measured the stress evolution during electrodeposition of Ni on lithographically patterned substrates with different pattern spacings and growth rates. Studying films with a controlled island geometry allows us to relate the stress (measured using wafer curvature) to the evolution of the morphology. We analyze the measurements with a model that focuses on the stress that develops where adjacent islands grow together to form new elements of grain boundary.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 97, 1 March 2015, Pages 33-36
نویسندگان
, , , , , , , , ,