کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
79763 | 49366 | 2011 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Maskless deposition of ZnO films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Maskless Mesoscale Materials Deposition (M3DTM) is a new direct write technique, which is versatile enough to deposit a large variety of precursors and colloidal suspensions. It is a simple and convenient process for rapid prototyping of structures and components. This maskless deposition method operates in air and at room temperature. In this study, a glycerol based polymeric precursor was used for depositing ZnO thin films on surface modified glass substrates. The parameters for deposition using M3DTM were thoroughly examined and optimized.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 95, Issue 3, March 2011, Pages 870–876
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 95, Issue 3, March 2011, Pages 870–876
نویسندگان
Uma Choppali, Elias Kougianos, Saraju P. Mohanty, Brian P. Gorman,