کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8003499 | 1516366 | 2012 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
MgyNi1ây(Hx) thin films deposited by magnetron co-sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Description of the co-sputtering deposition process of Mg and Ni with and without reactive H2. ⺠A mix of metallic and hydride particles forms for y > 0.33 under reactive sputtering. ⺠Electrical, optical and structural properties as well as the chemical stability of the resulting films are discussed. ⺠Low presence of metallic particles is observed for Mgâ¼2NiHâ¼4.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 527, 25 June 2012, Pages 76-83
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 527, 25 June 2012, Pages 76-83
نویسندگان
T. Mongstad, C.C. You, A. Thogersen, J.P. Maehlen, Ch. Platzer-Björkman, B.C. Hauback, S. Zh. Karazhanov,