کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8030328 | 1517663 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In-line deposition of silicon-based films by hot-wire chemical vapor deposition
ترجمه فارسی عنوان
رسوب گذاری فیلم های مبتنی بر سیلیکون به وسیله قرار دادن بخار شیمیایی داغ سیم
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
⺠Inline-deposition of amorphous silicon by hot-wire CVD (cat-CVD). ⺠Carrier lifetime optimization of hot-wire CVD intrinsic amorphous silicon films. ⺠Passivation of heterojunction solar cells with intrinsic thin layer (HIT cells). ⺠Characteristics of HIT solar cells fabricated by inline hot-wire CVD.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 215, 25 January 2013, Pages 141-147
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 215, 25 January 2013, Pages 141-147
نویسندگان
Lothar Schäfer, Tino Harig, Markus Höfer, Artur Laukart, Dietmar Borchert, Sinje Keipert-Colberg, Jutta Trube,