کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
81348 | 49470 | 2006 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Induced structural damages by He+ irradiation in conducting transparent indium–tin oxide thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Irradiation of polycrystalline sputter-deposited ITO thin films on float-glass substrates was performed with high-energy MeV He+ ion beam implantation at doses in the range 2–6×10+15 ions/cm2. A significant change in both surface morphology and crystallographic structure after implantation was observed. It results in a crystallographic disorder of large crystallites with the ion dose, creation of electronic defects and a roughening of the ITO thin-films’ surface.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 90, Issue 1, 6 January 2006, Pages 111–119
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 90, Issue 1, 6 January 2006, Pages 111–119
نویسندگان
M. Maaza, O. Nemraoui, A.C. Beye, C. Sella, T. Derry,