کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8149623 | 1524404 | 2015 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Overgrowth of wrinkled InGaAs membranes using molecular beam epitaxy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Partly released InGaAs layers forming a wrinkled network are used as templates for InAs growth. A systematic growth study was carried out, where InAs amounts from 0Â ML to 3Â ML were deposited on the patterned samples. The material migration during growth is evaluated by distinct microscopy techniques. We find a systematic accumulation of the deposited material on the released, wrinkled areas of the sample, whereas no material accumulation or formation of three-dimensional nanostructures is observed on the unreleased areas of the sample.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 425, 1 September 2015, Pages 39-42
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 425, 1 September 2015, Pages 39-42
نویسندگان
S. Filipe Covre da Silva, E.M. Lanzoni, A. Malachias, Ch. Deneke,