کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9618717 | 49464 | 2005 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
An optimized texturing process for silicon solar cell substrates using TMAH
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: An optimized texturing process for silicon solar cell substrates using TMAH An optimized texturing process for silicon solar cell substrates using TMAH](/preview/png/9618717.png)
چکیده انگلیسی
Random pyramidal texturing of silicon solar cell substrates allows to increase the short-circuit current of the device, and it is usually achieved, in commercial solar cells, by chemical anisotropic etching using a potassium hydroxide and isopropyl alcohol solution. Due to some drawbacks of these chemicals, alternative chemical etching solutions are required. Our successful results on the tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH), (CH3)4NOH, solution for silicon random texturing are reported. Heterojunction solar cells were deposited on textured substrates, indicating the feasibility of TMAH texturing for solar cell fabrication.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 87, Issues 1â4, May 2005, Pages 725-732
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 87, Issues 1â4, May 2005, Pages 725-732
نویسندگان
D. Iencinella, E. Centurioni, R. Rizzoli, F. Zignani,