کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9670593 | 1450404 | 2005 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization of focused electron beam induced carbon deposits from organic precursors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We have screened several organic precursors for focused electron beam induced deposition of carbon. The growth rates are found to be higher with the light carboxylic acid series than with styrene. The deposits obtained are analyzed by several micro-characterization methods. They have close compositions and structures, quite independently on the nature of the precursor. Besides C, the deposits contain only O and H. The compositions of the deposits are shown to be close to C9H2O1. The C fraction is amorphous carbon, more than 90% sp2. Two electron-induced processes occur: electron-induced precursor fixation and desorption of volatile elements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volumes 78â79, March 2005, Pages 300-306
Journal: Microelectronic Engineering - Volumes 78â79, March 2005, Pages 300-306
نویسندگان
Tristan Bret, Sebastien Mauron, Ivo Utke, Patrik Hoffmann,